解决方案

国仪FIB秀

聚焦离子束电子束双束显微镜可用于大规模集成电路的缺陷诊断、修补、离子注入、原位加工、掩膜版修理、刻蚀，集成电路设计修改，量子芯片器件制作，无掩膜加工，纳米结构制作，复杂纳米图形加工，材料的三维成像与分析、超灵敏表面分析、表面改性，以及透射电镜样品制备等方面。应用需求广泛，不可或缺。

目前，国仪量子推出的聚焦离子束电子束双束显微镜DB500拥有自主可控的场发射电子镜筒和“承影”离子镜筒，是一款优雅全能的纳米分析和制样工具。高压隧道技术（SuperTunnel）、低像差无漏磁物镜设计，低电压高分辨率成像，保证纳米分析能力。“承影”离子镜筒采用液态镓离子源，拥有高稳定、高质量的离子束流，保证纳米加工能力。集成式的纳米机械手、气体注入器，拥有24个扩展口，配置全面，自主可控，扩展性强，为您打造全能纳米分析和加工中心。

为向用户展示DB500的卓越性能，国仪量子电镜团队特别策划了《国仪FIB秀》专题节目，将通过视频形式，呈现这台尖端设备在材料科学、半导体工业、生物医学等领域的广泛应用。观众将了解DB500的工作原理，欣赏其拍摄的惊艳微观图像，并深入探索这一技术对科研和工业发展的重大意义。

透射电镜样品制备

本期节目，我们将为您展示DB500如何高效、精确地制备透射电子显微镜(TEM)样品。

从视频中可以看到，DB500制备TEM样品，操作简单、前处理步骤少，学习成本低，测试高效；可实现定点微纳尺度精准切割，尺寸可控，厚度均匀，适用多种显微学和显微谱学的分析；并且可实现切割、成像、分析一体化。